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Achat de deux systèmes; un pour le dépôt en phase vapeur d’oxyde et de Nitrure de Silicium à basse température (ICP-CVD), ainsi qu’un équipement de gravure profonde de Silicium (ICP-RIE)

Source : SEAO

École Polytechnique · Gré à gré · fermeture non publiée

Faits

Publication
16 avril 2024
Délai d'adjudication
Date de clôture non publiée
Nature du contrat
Biens
Étapes documentées
Mise à jour de l'appel d'offres
Montant
— non déclaré
Référence
Avis nº DS-235546
UNSPSC
41000000Équipement de laboratoire, de mesure, d’observation et d’analyse
Catégorie SEAO
G27 — Instruments scientifiques

Disposition invoquée

Article28 - Contrat lié à des activités de recherche et de développement ou à des activités d’enseignement.

Citée telle que l'organisme l'a publiée. Lauréo ne juge pas si elle s'applique.

SEAO, Données Québec · données du 4 octobre 2026

Description

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Précédents — ce code chez cet acheteur

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Soumissionnaires

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Le prix à battre

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Historique de l'acheteur — derniers contrats adjugés

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Adjudication

Lauréats et montants adjugés
AnnéeLauréatMontant
2024Plasma-Therm, LLC1 168 970 $déclaré
2024Plasma-Therm, LLC1 168 970 $déclaré
Contrats signés et leurs échéances
ContratSignéÉchéanceMontant du contrat
3283420Le contrat signé est inférieur au montant adjugé de 133 $ — −0,0 %. Un écart est un fait, pas un jugement : sur 121 996 paires comparables il existe dans 62 % des cas, et la moitié sont inférieurs à l'adjugé.20241er avril 20241 168 837 $déclaré
706580Le contrat signé est inférieur au montant adjugé de 133 $ — −0,0 %. Un écart est un fait, pas un jugement : sur 121 996 paires comparables il existe dans 62 % des cas, et la moitié sont inférieurs à l'adjugé.20242 avril 20241 168 837 $déclaré

SEAO, Données Québec · données du 4 octobre 2026

Documents

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La source
SEAO — Données Québec · CC-BY 4.0 · données à jour au 4 octobre 2026 · lien vers ce détail

SEAO, Données Québec · données du 4 octobre 2026

Citer cette fiche
Permalien
https://www.laureo.ca/avis/ocds-ec9k95-1837474
Citation
Lauréo, « Achat de deux systèmes; un pour le dépôt en phase vapeur d’oxyde et de Nitrure de Silicium à basse température (ICP-CVD), ainsi qu’un équipement de gravure profonde de Silicium (ICP-RIE) », École Polytechnique, avis nº DS-235546, données du 4 octobre 2026, d'après le SEAO / Données Québec (CC-BY 4.0). https://www.laureo.ca/avis/ocds-ec9k95-1837474
Réutilisation
Chiffres et texte réutilisables avec attribution. Les documents du SEAO ne sont jamais redistribués : ils sont liés à leur source officielle.
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Achat de deux systèmes; un pour le dépôt en phase vapeur d’oxyde et de Nitrure de Silicium à basse température (ICP-CVD), ainsi qu’un équipement de gravure profonde de Silicium (ICP-RIE) — École Polytechnique — Lauréo