Acquisition Électron Beam lithographie système
Source : SEAOUniversité de Sherbrooke -Service des ressources financières- Section de l'approvisionnement · Méthode non publiée · fermeture non publiée
Faits
- Publication
- 27 avril 2020
- Méthode
- 0
- Montant
- — non déclaré
- Référence
- Avis nº S-0621-19-03-1
- UNSPSC
- 41000000Équipement de laboratoire, de mesure, d’observation et d’analyse
- Catégorie SEAO
- G27 — Instruments scientifiques
SEAO, Données Québec · données du 17 octobre 2026
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Description
100 %Dans le cadre de la Chaine d’Innovation Intégrée regroupant les infrastructures du C2MI, IQ et 3IT, l’Université de Sherbrooke va faire l’acquisition d’un système de lithographie par faisceau d’électrons de haute performance ayant la capacité de réaliser des structures inférieures à 7 nm sur des tranches allant jusqu’à 200 mm afin d’être compatible avec les équipements du C2MI.
Lire la suite — 474 caractèresRéduire
Un tel équipement opérant à 100 kV permet de procéder à la lithographie sur l’ensemble de la surface d’une tranche de 200 mm à haute vitesse grâce à un générateur de motif de 125MHz et une platine accélérée. Ce système de lithographie sera combiné un outil de métrologie automatisé permettant d’évaluer la performance et la qualité des lithographies effectué avec l’équipement de 100 kV. De plus, l’équipement de métrologie opérant à 30 kV pourra effectuer des lithographies
SEAO, Données Québec · données du 17 octobre 2026
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- La source
- SEAO — Données Québec · CC-BY 4.0 · données à jour au 17 octobre 2026 · lien vers ce détail
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SEAO, Données Québec · données du 17 octobre 2026