Système de dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma (PECVD)
Source : SEAOInstitut national de la recherche scientifique (INRS) · Méthode non publiée · fermeture non publiée
Faits
- Publication
- 28 septembre 2016
- Méthode
- 0
- Montant
- — non déclaré
- Référence
- Avis nº BC-75173NG(EMT)
- UNSPSC
- 25151704Satellites scientifiques ou de recherche
- Catégorie SEAO
- G27 — Instruments scientifiques
SEAO, Données Québec · données du 4 octobre 2026
Description
100 %L'institut national de la recherche scientifique, Centre Énergie Matériaux Télécommunications, a fait l'acquisition d'un système de déposition chimique en phase vapeur activé par plasma (PECVD). Cette acquisition s'inscrit dans le cadre de ses recherches universitaires financées par le Conseil de recherches en sciences naturelles et en génie du Canada.
SEAO, Données Québec · données du 4 octobre 2026
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